十年。

一臺光刻機的壽命也不僅僅在于一兩代芯片，如果用193nm深紫外光刻機也是可以做到10nm乃至7nm芯片的生產的，只是工藝難度實現(xiàn)起來相對復雜，成本較高，比如采用自對準四次成型技術，就可以得到更加致密的結構，不過因為芯片層級的工藝變得復雜，需要更多掩模版和材料，所以用193nm光刻機生產7nm芯片非常不劃算，所以到了這個程度必須上EUV光刻機。

光刻機作為芯片的核心制造設備，也是當前最復雜的精密儀器之一。其實光刻機不僅可以用于芯片生產，還可以用于封裝和用于LED制造領域。

　　目前我國高端的光刻機主要是從國外進口的，而且一臺光刻機價值不菲，甚至高達上億美元。

　　關于光刻機的壽命網上也沒有具體的相關資料說明，所以暫時無法知曉。