蝕刻是一種通過化學(xué)或物理方式將材料表面的一部分刻蝕掉的加工工藝。在蝕刻過程中，利用液體或氣體中的化學(xué)物質(zhì)或物理作用來對被加工材料進(jìn)行局部刻蝕，從而達(dá)到制造各種形狀和結(jié)構(gòu)的目的。蝕刻技術(shù)廣泛應(yīng)用于電路板、模具、芯片、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域。

以下是蝕刻工藝的一些基本知識：

1.蝕刻工藝分類：按照材料加工方式的不同，蝕刻工藝可以分為濕蝕刻和干蝕刻兩種。濕蝕刻是指在液體溶液中進(jìn)行的刻蝕，而干蝕刻則是在氣體環(huán)境中進(jìn)行的刻蝕。

2.蝕刻液：蝕刻液是蝕刻工藝中非常重要的一部分，不同的蝕刻液可以對不同材料進(jìn)行刻蝕。常用的蝕刻液包括氫氟酸、硝酸、氯化鐵等。

3.刻蝕機(jī)：蝕刻機(jī)是進(jìn)行蝕刻工藝的主要設(shè)備。常見的蝕刻機(jī)包括濕蝕刻機(jī)、干蝕刻機(jī)、光刻機(jī)等。

4.蝕刻模板：蝕刻模板是蝕刻工藝中用來制造所需結(jié)構(gòu)的模具。常見的蝕刻模板材料包括玻璃、金屬、石英等。

5.蝕刻圖形：蝕刻圖形是蝕刻工藝中要制作的結(jié)構(gòu)形狀。蝕刻圖形需要經(jīng)過CAD設(shè)計(jì)和光刻等工序進(jìn)行制作。

其基本原理是利用化學(xué)感光材料的光敏特性, 在基體金屬基片兩面均勻涂敷感光材料采用光刻方法, 將膠膜板上柵網(wǎng)產(chǎn)顯形狀精確地復(fù)制到金屬基片兩面的感光層掩膜上通過顯影去除未感光部分的掩膜, 將裸露的金屬部分在后續(xù)的加工中與腐蝕液直接噴壓接觸而被蝕除, 最終獲取所需的幾何形狀及高精度尺寸的產(chǎn)品技術(shù)蝕刻技術(shù)